“我们现在搞出了光刻机，解决了光刻机的问题，但是工艺呢？”
“现在我们只搞出了5nm的工艺，但是现在市场上常见芯片工艺还有7nm、10nm，12nm，华芯国际有14nm工艺了，前面的这些工艺，同样十分重要。”
“根据光刻机分辨率的公式，CD=K1*λ/NA，我们的X光刻机凭借着X光更加短的波长，我们研究工艺其实要比他们用EUV和DUV研究工艺更加简单一些。”
“就像DUV做出的14nm芯片，实际上经过的曝光次数相当之多，这也就导致他们的实际工艺相当复杂，但我们的X光刻机就能完全避免这一点。”
“用游戏里面的打boss来比喻的话，也就相当于他们的光刻机是一个普通的武器，他们想要打赢boss的话，就要发挥更多技巧，但我们的X光刻机是一个更加厉害的武器，我们不需要研究特别复杂的技巧，一切都可以简化而。”
“但是，我们也不能就不研究技巧了，不然的话，我们还是打不了BOSS，所以，我的建议就是，我们成立一个类似台积电的公司，以后专门研究X光刻机工艺，并且承接芯片代工厂的工作。”